Laden Sie hier Teil 3 der Serie Einführung in die Metallbeschichtungstechnik für die Elektronenmikroskopie herunter
EINFÜHRUNG IN DIE METALLBESCHICHTUNGSTECHNOLOGIE FÜR DIE ELEKTRONENMIKROSKOPIE
Teil 3: Wie verschiedene Parameter den Sputterbeschichtungsprozess beeinflussen
Dieses Dokument ist Teil einer Serie von 4 technischen Notizen zur Sputter-Beschichtungstechnologie. Zusammen bilden sie den Text „INTRODUCTION TO METAL COATING TECHNOLOGY FOR ELECTRON MICROSCOPY“. Dieses Dokument soll dem Leser einen Einblick in die Technik der Sputterbeschichtung zur Probenvorbereitung geben, die in Elektronenmikroskopie (EM)-Labors weltweit in großem Umfang eingesetzt wird.
Obwohl die Sputterbeschichtung als Probenvorbereitungstechnik für die Elektronenmikroskopie gut bekannt und akzeptiert ist, sind die Feinheiten dieser Technologie nicht immer gut bekannt.
Der Inhalt der 4 Kapitel sieht wie folgt aus:
Teil 1: Ladungseffekte in der Elektronenmikroskopie und wie man sie vermeiden kann
Teil 2: Grundlegende Prinzipien der Sputterbeschichtung
Teil 3: Wie verschiedene Parameter den Sputterbeschichtungsprozess beeinflussen
Teil 4: Die LUXOR A2-Technologie: SEM-Beschichtung leicht gemacht
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